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硅基板,玻璃基板等厚度檢測原理及檢測設(shè)備介紹

  • 發(fā)布日期:2022-04-26      瀏覽次數(shù):2067
    • 硅基板,玻璃基板等厚度檢測原理及檢測設(shè)備介紹


      可以高精度測量硅基板和玻璃基板的厚度。

      通過安裝初開發(fā)的具有高波長分辨率的分光鏡,可以測量厚達(dá) 3 mm 的薄膜。

      通過 10 μm 的小光斑直徑,可以測量粗糙和不均勻的薄膜。

      通過添加自動(dòng)平臺(tái)可以輕松測量面內(nèi)分布。

      主要特點(diǎn)

      • 高精度測量硅基板和玻璃基板的厚度

      • 配備自主研發(fā)的高波長分辨率光譜儀!可測量 3 mm 的厚膜

      • 可以用 10 μm 的小光斑直徑測量粗糙和不均勻的薄膜。

      • 通過添加自動(dòng)平臺(tái)輕松測量面內(nèi)分布

      主要用途

      半導(dǎo)體硅基板、LT基板、Ti基板等的厚度測量
      平面顯示器玻璃基板厚度和氣隙的測量

      產(chǎn)品陣容

      模型F3-s980F3-s1310F3-s1550
      測量波長范圍960 – 1000nm1280 – 1340nm1520 – 1580nm

      膜厚測量范圍
      (Si基板)

      4 微米 – 350 微米7 微米 – 1 毫米10 微米 - 1.3 毫米
      膜厚測量范圍
      (玻璃基板)
      10 微米 – 1 毫米15 微米 - 2 毫米25 微米 - 3 毫米
      準(zhǔn)確性± 0.4% 薄膜厚度
      測量光斑直徑10微米

      *取決于樣品和測量條件

      測量示例

      隨著半導(dǎo)體3D安裝的進(jìn)展,控制硅基板的厚度變得很重要。

      F3-sX可以高精度、高速地測量硅基板的厚度。可以測量硅晶片上的氧化膜、抗蝕劑等。

       

      硅基板厚度的測量



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